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PVD500磁控溅射系统
编号:2
类别:磁控溅射镀膜系统
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备关键技术指标:

    本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业最好的软件控制系统,提供成熟的工艺包;

    片内膜厚不均匀性:≤±2.9%,批间膜厚不均匀性≤±4.3%(连续3炉);

    样品托面中心到地面的高度1360mm

    注:以TiCu任选一种靶材做工艺测试,样品为Φ100mm,镀膜厚度100nm左右进行标定。

    溅射材料适用于:AuAgPtWMoTaTiAlSiCuFeNi、氧化铝,氧化钛,氧化锆,ITOAZO,氮化钽,氮化钛等;

    本套设备为PVD系统平台,既可专注单一功能、也可选配以下多功能组合:

    1、关键部件接口都为标准接口,可以实现电子束、电阻蒸发、有机蒸发、多靶或单靶磁控溅射、离子束、多弧、样品离子清洗等功能(如预留,需要注明);

    2、系统平台为准无油系统,提供更优质的超洁净实验环境,保障实验结果的可靠性和重复性;

    3、可以连接超洁净手套箱、进样腔体和多个工艺腔,形成真空互联系统,保障样品制备单层、多层薄膜与表征都在高真空下进行,最大程度的避免样品的污染(如预留,需要注明);

    4、系统可以选择单靶单样品、单靶多样品、多靶单样品、多靶多样品等多种、多层沉积方式;(注:可扩展到6个磁控靶阴极)

    5、靶基距具有动态自动调节功能;

    6、样品台和磁控靶可以上下互换;

    7、系统设置一键式操作,可以实现自动、手动、远程控制、远程协助,自动检漏等功能;

    8、控制软件分级权限管理,采用配方式自动工艺流程,提供标准工艺配方和开放式工艺编辑、存储与调取执行、历史数据分析等功能,并且不断更新和升级;

    9、可以提供网络和手机端查询控制功能,实现随时查询数据记录、分析统计等功能(如预留,需要注明);

    10、提供远程故障诊断功能,动态为用户提供各类型技术服务;11、节能环保,设备能耗优化后运行功率相比之前节能10%

    12、本设备为紧凑式,布局相比原组合模式,节省占地面积30%13、工艺前的真空指标准备时间压缩为原来的1/3,最快16分钟内即可开始工艺实验;

    14、真空抗冲击,误操作带有自保护功能;

    15、可用于标准镀膜产品小批量生产。

    1、溅射室极限真空度:≤3x10-5Pa(经烘烤除气后)

    2、系统从大气(充入干燥氮气)开始抽气:溅射室20分钟可达到5x10-4Pa

    3、镀膜时工作真空度:0.110Pa

    4、系统在抽气到极限真空后停泵关机12小时后真空度:≤3Pa

    5、磁控溅射靶:3英寸x4套;

    6、直流溅射电源:500Wx3套;

    7、射频溅射电源:600Wx1套;

    8、样品尺寸:4英寸x1片;

    9、样品温度:800℃;

    10、脂润滑分子泵:1套;

    11、无油涡旋干泵:1套;

    12、薄膜压力真空规:1套;

    13、冷却水路系统:1套;

    14、全自动控制及人机交互界面系统

    系统由工业级工控机和PLC控制,有自动控制和手动控制两种功能,采用“PVD沉积镀膜控制系统” V1.3

    自动控制:

    1、系统具有一键式操作功能,已经配置多种标准工艺参数包,可以直接调取执行;

    2、系统具有自选参数功能,设定好目标真空度、样品目标加热温度、溅射电源工作参数,系统自动开始抽真空,达到目标真空度后开始加热,达到目标温度后,根据客户设定的功率开启溅射电源,溅射时间以设定的工作参数为准;

    3、同时对溅射电源的功率和溅射时间可以设定多个数值,实现不同输出功率、不同镀膜时间的控制,进而实现单靶溅射、多靶轮流溅射和共溅射;

    4、系统检测工艺试验结束后自动通入保护气体,破除真空,并提醒工艺结束。

    手动控制:

    即实验过程的点动控制,操作对象包括:

    1、旁抽阀、前级阀、插板阀、放气阀的开关;

    2、干泵与分子泵的启停;

    3、烘烤照明的开关;

    4、样品挡板的开关;

    5、样品自转速度的设定;

    6、样品升降设定;

    7、样品加热目标温度的设定;

    8、靶挡板的开关;

    9、靶基距软件旋钮;

    10、设定溅射功率;

    11、设定气体流量。

    15、系统具有漏气自动报警功能;

    16、系统提供工艺参数记录和分析,参数具有导入和导出功能;

    17、历史工艺参数自动调取执行。

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 

    地址:沈阳市浑南新区新源街1

    销售电话:

    售后电话:

    传真:

    邮箱:sales@sky.tamsaati.com

    网址:tamsaati.com

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660

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