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FJL560磁控溅射与离子束系统
编号:7
类别:磁控溅射镀膜系统
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

     

    设备组成

        系统主要由溅射真空室、进样室、永磁磁控溅射靶(四个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

    1、极限真空度:≤6.6x10-5Pa (经烘烤除气后);
    2、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.6x10-4Pa;
    3、磁控溅射靶:2英寸x4套;
    4、射频溅射电源:500Wx2套;
    5、直流溅射电源:500Wx2套;
    6、样品尺寸:φ30mmx6片;
    7、样品温度:600°C;
    8、溅射离子枪:1套;
    9、辅助沉积离子枪:1套;
    10、四工位转靶:1套;
    11、分子泵系统:1套;
    12、冷却水路系统:1套。

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 

    地址:沈阳市浑南新区新源街1

    电话:

    传真:

    邮箱:sales@sky.tamsaati.com

    网址:tamsaati.com

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660

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