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PLD450脉冲激光溅射薄膜沉积系统
编号:1
类别:激光镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

       用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

     

    设备组成

        系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

    极限真空度:≤6.67x10-6 Pa 

    抽速:20分钟可达到5x10-3 Pa

    靶材尺寸:Φ60mmx4块;

    样品尺寸:Φ50mmx1片;

    样品温度:800℃;

    分子泵系统:1套;

    真空计:1套;

    触摸屏点动控制系统:1套;

    冷却水路系统:1套;

    高能电子衍射仪:1套(选配);

    激光束扫描装置:1套;

    氧等离子体发生器:1套;

    激光器:1套(选配)。

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 

    地址:沈阳市浑南新区新源街1

    销售电话:

    售后电话:

    传真:

    邮箱:sales@sky.tamsaati.com

    网址:tamsaati.com

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660

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